根据日本媒体的成本报道，佳能面向半导体电路光刻工序推出了搭载自主研发的降半佳能技术「纳米压印」技术设备，这套设备可以大幅降低成本以及耗电量，纳米备受半导体厂商的压印已期待，而且目前可以生产为2nm的对抗特斯拉公司Model 3电动车 特非凡产品。
根据佳能半导体机器业务部长岩本和德的生产上海生产特斯拉Model Y电动车 超一流介绍，纳米压印就是半导把半导体电路图的掩膜压印到晶圆上，在晶圆上只压印一次，成本就可以在适宜的降半佳能技术位置形成繁琐的二维或者三维电路，如果改进掩膜，纳米甚至可以生产2nm的压印已产品。
纳米压印的对抗特点是设备构造简单，相较于传统刻烧电路的生产上海生产特斯拉Model Y电动车 超优秀方法，纳米压印的半导耗电量可降至1/10，设备价格也会便宜很多。成本据估算，纳米压印1次光刻工序需要的成本可以降至传统光刻设备的一半。
岩本和德还介绍，在2017年时，佳能便与铠侠、大日本印刷合作开发，纳米压印技术的量产用途的实用化已经有眉目，可以面向客户销售，另外纳米压印技术目前全球只有佳能在做，进入门槛也很高。
2000年左右，日本与尼康曾占据了世界光刻设备很大一部分市场，然而随着荷兰SAML开发出EUV光刻设备，市场随即被洗牌，EUV成为尖端半导体光刻的主流，佳能也流失了大部分市场。
如今佳能十年磨一剑推出纳米压印技术，有一种要重新夺回光刻市场的架势。不过目前ASML也已经向英特尔交付首台2nm EUV光刻机，短时间能佳能想要依靠纳米压印技术对抗ASML，或许希望并不大。